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芯源微:公司前道涂胶显影设备已完成在晶圆加工环节28nm及以上工艺节点全覆盖

发布日期:2025-10-14   浏览次数:109
   


【芯源微:公司前道涂胶显影设备已完成在晶圆加工环节28nm及以上工艺节点全覆盖】公司已经掌握包括涂胶显影设备、单片式湿法设备等产品多项核心技术,并形成了完善的自主知识产权。公司前道涂胶显影设备已完成在晶圆加工环节28nm及以上工艺节点全覆盖,并可持续向更高工艺等级迭代。


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